采用氫氬混合氣體,能夠有效地去除基底表面的污染物。在清洗過程中氫等離子體能夠去除氧化物,而氬通過離子化能夠促進(jìn)氫等離子體數(shù)量的增加,提高氬氫等離子體的還原活性。...
2022-12-29在實際的貼壁細(xì)胞培養(yǎng)實驗中,由于貼壁細(xì)胞需要伸展在培養(yǎng)材料的表面才能增長的特性,故培養(yǎng)器皿的親水性直接影響著細(xì)胞的生長。因此,培養(yǎng)器皿的親水性能好壞是決定著培養(yǎng)器皿的質(zhì)量的重要指標(biāo)有明顯影響,而且對細(xì)胞的生長量有很大影響。...
2022-12-23低溫等離子體聚合是等離子體技術(shù)在高分子領(lǐng)域的主要應(yīng)用之一,它是利用放電把有機(jī)單體等離子體化,使其產(chǎn)生各類“活性種”,由這些“活性種”之間或“活性種”和單體之間進(jìn)行加成反應(yīng)形成聚合膜,是單體處于等離子體狀態(tài)下進(jìn)行聚合,并沉積高聚物薄膜的一種新方法。...
2022-12-20低溫下等離子體中的活性物質(zhì)與材料表面的氧化物發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)的活性物質(zhì)為不同狀態(tài)的H粒子,如原子態(tài)(H)、離子態(tài)(H+,H2+,H3+)和激發(fā)態(tài)的H原子或分子(H*或H2*)等粒子等。反應(yīng)生成的易揮發(fā)的水蒸氣由等離子體本身的氣流將反應(yīng)產(chǎn)物帶走,從而實現(xiàn)金屬表面氧化物還原的效果。...
2022-12-19磁控濺射鍍膜技術(shù)有許多的優(yōu)點,但是磁控濺射法也存在一定不足,比如濺射過程中溫度的升高會對基底產(chǎn)生一定損傷,真空鍍膜的速率低,所需氣壓高,另外濺射設(shè)備系統(tǒng)復(fù)雜、價格昂貴等。...
2022-12-16等離子表面清洗設(shè)備有哪些形式呢?,等離子表面清洗設(shè)備按照按等離子體產(chǎn)生方環(huán)境的不同大體上分為兩大類,低壓等離子表面清洗設(shè)備,大氣壓等離子表面清洗設(shè)備。...
2022-12-16離子清洗能有效增強基板的浸潤性,降低芯片和基板共晶焊界面的孔隙率,同時也能清除元件表面的氧化物薄膜和有機(jī)物沾污,經(jīng)過等離子清洗,其鍵合焊接強度和合金熔封密封性都得到提高。...
2022-12-15大氣壓等離子體清洗的作用原理是利用等離子體中具有高能量的電子、離子、原子團(tuán)自由基、光子等激發(fā)態(tài)粒子與物體表面污染物分子的活化反應(yīng),使之逐步分解成簡單小分子,直至揮發(fā)脫離工件表面的過程。...
2022-12-15紫外臭氧清洗機(jī)和氧等離子體清洗機(jī)兩者都可以用來對材料表面進(jìn)行清洗和活化改性,兩者都屬于干式清洗方式,不會對環(huán)境造成污染,在清洗的同時還能改變基底的特性。...
2022-12-14等離子體是物質(zhì)的第四種狀態(tài),隨著人類對等離子體的研究不斷深入,人們發(fā)現(xiàn)等離子體具有很多優(yōu)良的性質(zhì),許多過去不能完成的工藝過程可以借助等離子體技術(shù)來實現(xiàn)。...
2022-12-13LED的封裝工藝主要有固晶、焊線、熒光粉涂覆、制作透鏡、切割、測試和包裝等環(huán)節(jié)。其中固晶前、焊線前都需要做等離子清洗;部分產(chǎn)品在熒光粉涂覆后還需要做等離子清洗。...
2022-12-12plasma等離子清洗機(jī)除了可以用來清洗之外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變材料表面的性能,如親水性、粘接性、印刷性能等。等離子清洗機(jī)的作用主要體現(xiàn)為三個方面,即蝕刻,活化和清潔,下面對等離子清洗機(jī)的三個主要作用做一一闡述。...
2022-12-12