三
常壓介質(zhì)阻擋放電等離子體表面處理的影響因素：1、反應(yīng)性氣體的流量2、載氣3、電極和電介質(zhì)形式4、放電條件5、處理時(shí)間。...
2023-09-13
隨著等離子體處理技術(shù)在纖維表面功能改性應(yīng)用中的優(yōu)勢(shì)逐漸被染整工作者所認(rèn)識(shí)，其在印染領(lǐng)域中的重要性也逐步提升。等離子體處理可獲得各種創(chuàng)新性效果，提升紡織品應(yīng)用性能，從而被用于生產(chǎn)專業(yè)的服裝和產(chǎn)業(yè)用紡織品。...
2023-09-13
等離子清洗機(jī)常用惰性氣體作為保護(hù)氣體，常用的保護(hù)氣種類包括氬氣、氮?dú)夂蜌錃?。其中，氬氣是常用的保護(hù)氣，因?yàn)樗鼘?duì)大多數(shù)材料都具有良好的惰性，不會(huì)和大多數(shù)材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)氬氣價(jià)格相對(duì)較低。...
2023-09-12
答：等離子清洗是否會(huì)產(chǎn)生臭氧跟通入的氣體有關(guān)，只有當(dāng)氧氣存在的情況下才會(huì)產(chǎn)生臭氧，這就分為兩種情況，當(dāng)使用氧氣作為工藝氣體時(shí)會(huì)產(chǎn)生臭氧，當(dāng)使用空氣作為工藝氣體時(shí)也會(huì)產(chǎn)生臭氧。...
2023-09-12
干法刻蝕技術(shù)是利用等離子體刻蝕薄膜，主要通過(guò)物理和化學(xué)蝕刻達(dá)到刻蝕目的。目前，干法蝕刻技術(shù)有：反應(yīng)離子刻蝕（RIE）、電子回旋共振等離子體刻蝕（ECR）和感應(yīng)耦合等離子體（ICP）刻蝕。...
2023-09-12
在對(duì)有機(jī)材料的表面改性工藝中,低溫等離子體在不改變材料基底特性的前提下,通過(guò)改變材料的表面層微結(jié)構(gòu)、表面層物理性質(zhì)以及表面層化學(xué)特性,在高性能材料、復(fù)合材料和醫(yī)用材料等研究領(lǐng)域提供了新的解決方一案。...
2023-09-11
氣體放電產(chǎn)生的低溫等離子體中除了擁有大量的正負(fù)粒子之外，還有受激發(fā)的原子等高能粒子，這些高能粒子可以促使物質(zhì)發(fā)生變化，進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，改變物質(zhì)屬性，以下分別講述了等離子體在當(dāng)前工程應(yīng)用中的三大主流技術(shù)：等離子刻蝕技術(shù)、等離子清洗技術(shù)以及等離子表面改性技術(shù)。...
2023-09-07
等離子清洗是在微觀分子、原子和離子層的反應(yīng)，清洗后的效果好壞很難通過(guò)肉眼來(lái)判別，因此清洗效果的判斷一般是通過(guò)貼片后鍵合強(qiáng)度的提高或者是使用專用的測(cè)試設(shè)備對(duì)清洗效果檢查的。...
2023-09-06
氧等離子清洗機(jī)和等離子清洗機(jī)其實(shí)并沒有太大的區(qū)別，氧等離子清洗機(jī)可以理解為通入氧氣作為工藝氣體的等離子清洗機(jī)，一般的氧等離子清洗機(jī)，只有一路工藝氣體通道（國(guó)外的設(shè)備比較常見），一路氣體通道一般為氧氣，所以就被叫做氧等離子清洗機(jī)。...
2023-09-05
工業(yè)生產(chǎn)中常用的等離子體主要由氣體放電產(chǎn)生，其中應(yīng)用較為廣泛的等離子體源有：?jiǎn)晤l／雙頻容性耦合等離子體源、感性耦合等離子體源等。...
2023-09-04
石英玻璃反應(yīng)倉(cāng)的選擇，取決于等離子清洗的應(yīng)用及樣品材質(zhì)，很多客戶采用的是不銹鋼反應(yīng)腔體來(lái)處理材料，他們對(duì)于清洗樣品表面沒有任何問題，如果客戶在等離子體處理時(shí)，需要潔凈的環(huán)境，或者清洗光學(xué)元件的時(shí)候，建議采用石英玻璃反應(yīng)腔體...
2023-08-31
在使用等離子清洗機(jī)的過(guò)程中，腔體的潔度也會(huì)影響等離子清洗的效果造成影響，所以及時(shí)對(duì)玻璃腔體進(jìn)行清潔，可以有效提高等離子清洗的效果。...
2023-08-31
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
133-8039-4543