關(guān)于真空等離子清洗機（設(shè)備）RF射頻功率大小的一些說明

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-04-06

真空等離子清洗設(shè)備一般包括真空系統(tǒng),射頻（RF）電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極和懸置極按照一定的方式組合放置,以適應不同的清洗場合。清洗時先將器件裝配好,參照它的清洗要求選擇一種電極放置方式后放到清洗室中,抽真空至30pa左右,通入清洗氣體后加射頻電壓后產(chǎn)生等離子體。影響清洗工藝的參數(shù)中,真空壓力值由倉體本身焊接密封性等決定,選擇合適的真空泵達到的真空壓力值一般已成為定值,工藝氣體選擇、工藝氣體流量大小、射頻功率、清洗時間等都可以根據(jù)工藝要求在等離子清洗設(shè)備屏幕上很簡便地調(diào)節(jié)數(shù)值,達到合理的匹配,獲得較好的清洗效果。

一般的工業(yè)型真空等離子清洗設(shè)備的射頻功率可調(diào)范圍為0-1000W和0-600W兩種，小型的等離子清洗機射頻功率為0-200W，也有0-300W的。射頻功率是真空等離子清洗設(shè)備的一個重要參數(shù)。射頻功率的大小直接影響等離子體的濃度。等離子體的電子密度和電子能量密度受功率的影響很大，隨功率的增加，電子密度和電子能量密度在總體上增加。

射頻（RF）功率
射頻等離子體技術(shù)是利用射頻能量使得反應器中產(chǎn)生高頻的交變電磁場，促使氣體激發(fā)電離從而形成等離子體，射頻功率的大小會影響等離子體的清洗效果，從而影響后續(xù)工藝的可靠性。加大等離子體射頻功率是增加等離子的離子能量來加強清洗強度。離子能量是活性反應離子進行物理工作的能力。射頻功率的設(shè)置主要與清洗時間達到動態(tài)平衡，一定范圍內(nèi)射頻功率與清洗時間成反比例關(guān)系，增加射頻功率可以適當降低處理時間，但會導致反應倉體內(nèi)溫度略有升高，所以有必要考慮清洗時間和射頻功率這兩個工藝參數(shù)。

綜上所述，真空等離子清洗設(shè)備針對不同的材料所選擇適用的功率范圍也有所差別。對于多芯片組件,內(nèi)部芯片及互連電路對清洗的要求很高，功率條件下參數(shù)控制敏感,容易造成損傷，一般選擇適中的功率后再結(jié)合調(diào)整其它參數(shù)得出最為理想的清洗工藝。

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